光电成像原理与技术

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  • 版 次:1
  • 页 数:534
  • 字 数:713000
  • 印刷时间:2006年01月01日
  • 开 本:
  • 纸 张:胶版纸
  • 包 装:平装
  • 是否套装:否
  • 国际标准书号ISBN:9787564004828
  • 丛书名:国防科工委“十五”规划教材.光学工程
作者:白廷柱,金伟其 编出版社:北京理工大学出版社出版时间:2006年01月 
内容简介
本书依据教学指导委员会审定的大纲编写,是电子科学与技术(光电子方向)专业本科生必修专业课程的教材,课程计划学时为64学时(内容可扩展至96学时)。书中内容的编排遵循专业课程的教学要求,以光学图像、辐射图像的获取、处理以及光电成像过程所涉及的相关理论和技术为主,涉及光电成像器件的图像变换、信号放大、图像信息的存储、传输、处理和显示的基本原理,光电成像系统的结构与设计,光电成像器件与系统的性能分析与测试,人眼、光源、辐射源和大气传输特性等。
目  录
第1章 绪论
1.1 光绪成像技术的产生及发展
1.2 光电成像对视见光谱域的延伸
1.3 光电成像技术的应用范畴
1.4 光电成像器件的分类
1.5 光电成像器件的特性
习题与思考题
第2章 人眼的视觉特性与图像探测
2.1 人眼的视觉特性与模型
2.2 图像探测理论与图像探测方程
2.3 目标的探测与识别
习题与思考题
第3章 辐射源与典型景物辐射
3.1 辐射度量及光度量

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