POD-硅化钼的氧化

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  • 版 次:1
  • 页 数:230
  • 字 数:290000
  • 印刷时间:2016年05月01日
  • 开 本:16开
  • 纸 张:
  • 包 装:平装-胶订
  • 是否套装:否
  • 国际标准书号ISBN:9787030482495
作者:张厚安,古思勇,张勇,麻季冬著出版社:科学出版社出版时间:2017年03月 
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内容简介
《硅化钼的氧化》简要介绍了硅化钼的性质、晶体结构、制备方法、性能和应用前景,较系统地总结了氧化基本理论、硅化钼氧化、二硅化钼基复合材料氧化、硅化钼涂层材料氧化等方面的研究成果与发展趋势。
  《硅化钼的氧化》可供从事高温结构材料、金属间化合物、难熔金属硅化物、高温腐蚀与防护等领域研究的科技工作者阅读,也可作为高等院校相关专业的教师、研究生和本科生的教学参考书使用。
目  录
前言

第1章 硅化钼简述
1.1 硅化钼的晶体结构
1.2 硅化钼的相图
1.3 硅化钼的性能
1.3.1 力学性能
1.3.2 氧化性能
1.3.3 摩擦磨损性能
1.4 硅化钼的发展简述
1.5 硅化钼的制备技术
1.5.1 机械合金化
1.5.2 自蔓延高温合成
1.5.3 放电等离子烧结

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