集成电路制造工艺

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  • 印刷时间:2014年09月01日
  • 开 本:16开
  • 纸 张:胶版纸
  • 包 装:平装
  • 是否套装:否
  • 国际标准书号ISBN:9787121228995
作者:孙萍 主编出版社:电子工业出版社出版时间:2014年09月 
内容简介
  本书按照教育部新的职业教育教学改革精神,根据电子行业岗位技能需求,结合示范专业建设与课程改革成果进行编写。全书从集成电路的制造工艺流程出发,系统介绍集成电路制造工艺的原理、工艺技术和操作方法等。全书共分4个模块11章,第1个模块为基础模块,介绍集成电路工艺发展的状况及典型电路的工艺流程;第2个模块为核心模块,重点介绍薄膜制备、光刻、刻蚀、掺杂及平坦化5个单项工艺的原理、技术、设备、操作及参数测试;第3个模块为拓展模块,根据产业链状况介绍材料制备、封装测试、洁净技术;第4个模块为提升模块,通过CMOS反相器的制造流程对单项工艺进行集成应用。
  全书根据产业链结构和企业岗位设置构建课程内容,注重与新工艺、新技术的结合,与生产实践的结合,以及与职业技能标准的结合。
  本书配有免费的电子教学课件、习题参考答案、教学视频和精品课网站,详见前言。
目  录
基础模块
第1章 集成电路制造工艺的发展与工艺流程
本章要点
1.1 集成电路制造工艺的发展历史
1.1.1 分立器件的发展
1.1.2 集成电路的发展
1.2 分立器件和集成电路制造工艺流程
1.2.1 硅外延平面晶体管的工艺流程
1.2.2 双极型集成电路的工艺流程
1.2.3 集成电路中NMOS晶体管的工艺流程
1.3 本课程的内容框架
本章小结
思考与习题1
核心模块

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