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内容简介

　　《真空镀膜原理与技术》阐述了真空镀膜的应用，真空镀膜过程中薄膜在基体表面生长过程；探讨了薄膜生长的影响因素；具体地介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。力求避开烦琐的数学公式，尽量用简单的语言阐述物理过程。通俗易懂、简单易学。
　　《真空镀膜原理与技术》可作为高等学校相关专业的本科生教材，也可用作研究生教材或相关行业工程技术人员的参考书。

目　　录

前言
第一章真空镀膜概述
1．1 固态薄膜简介
1．2 真空镀膜简介
1．2．1 真空镀膜物理过程
1．2．2 真空镀膜的分类
1．2．3 真空镀膜的特点
1．3 真空镀膜技术的应用和发展
1．4 真空镀膜系统
1．4．1 真空镀膜系统的基本概念
1．4．2 真空泵
1．4．3 真空计
参考文献

前言 第一章 真空镀膜概述 1．1 固态薄膜简介 1．2 真空镀膜简介 1．2．1 真空镀膜物理过程 1．2．2 真空镀膜的分类 1．2．3 真空镀膜的特点 1．3 真空镀膜技术的应用和发展 1．4 真空镀膜系统 1．4．1 真空镀膜系统的基本概念 1．4．2 真空泵 1．4．3 真空计 参考文献 第二章 真空镀膜成膜过程 2．1 薄膜生长简介 2．2 固体表面 2．3 薄膜生长过程 2．3．1 吸附 2．3．2 扩散和脱附 2．3．3 成核 2．3．4 连续膜的形成 2．4 薄膜生长的三种模式 2．5 固态薄膜的结构和缺陷 2．6 固体薄膜的性质 2．7 固体薄膜应力 2．8 薄膜与基体的附着力 2．9 基体 第三章 真空蒸发镀膜 3．1 真空蒸发镀膜原理 3．2 电阻蒸发源 3．2．1 电阳蒸发源的原理 3．2．2 电阻蒸发源的结构 3．2．3 电阻加热源的主要特点 3．2．4 电阻加热真空蒸发镀的应用 3．3 电子束蒸发源 3．3．1 e型电子枪的原理和结构 3．3．2 e型电子枪蒸发源的特点 3．3．3 e型电子枪真空蒸发镀的应用 3．4 感应加热蒸发源 3．4．1 感应加热蒸发源的原理 3．4．2 感应加热蒸发源的特点 3．5 脉冲激光沉积（PLD） 3．5．1 PLD系统 3．5．2 PLD工作原理 3．5．3 PLD技术特点 3．5．4 PLD应用和发展 3．6 分子束外延 3．6．1 分子柬外延原理 3．6．2 分子束外延装置 3．6．3 分子束外延特点 3．6．4 分子束外延技术应用及进展 3．7 真空蒸发镀膜中的重要参数 3．8 蒸发镀中基体上沉积的膜的厚度均匀性 3．8．1 单室蒸发镀薄膜均匀性计算 3．8．2 蒸发源与基片的相对位置对薄膜均匀性的影响 参考文献 第四章 真空溅射镀膜 4．1 直流二极辉光放电 4．2 等离子体 4．3 溅射原理 4．4 直流溅射镀膜 4．4．1 直流二极溅射镀膜 4．4．2 直流二极偏压溅射镀膜 4．4．3 直流多极溅射镀膜 4．5 直流磁控溅射镀膜 4．5．1 磁控溅射镀膜原理及特点 4．5．2 柱状靶 4．5．3 平面靶 4．5．4 S枪 4．5．5 磁控溅射镀膜一般特征 4．5．6 直流反应磁控溅射镀膜 4．6 射频溅射镀膜 4．6．1 射频辉光放电 4．6．2 射频溅射镀膜 4．7 中频磁控溅射镀膜 4．8 脉冲直流辉光放电镀膜 4．9 非平衡磁控溅射镀膜 4．10 真空蒸发和溅射镀膜参数与薄膜形貌关系 参考文献 第五章 真空离子镀 5．1 等离子体离子镀概述 5．1．1 等离子体离子镀原理 5．1．2 等离子体离子镀特点 5．1．3 等离子体离子镀分类 5．2 等离子体蒸发离子镀 5．2．1 e型电子枪蒸发离子镀 5．2．2 空心阴极放电离子镀 5．2．3 等离子体激活蒸发离子镀 5．2．4 等离子体激活高速离子镀 5．3 等离子体磁控溅射离子镀 5．3．1 磁控溅射离子镀 5．3．2 离化的磁控溅射离子镀 5．3．3 高能脉冲磁控溅射离子镀 5．3．4 自溅射 5．3．5 空心阴极辅助的高密度溅射离子镀 5．4 电弧离子镀 5．4．1 阴极电弧离子镀 5．4．2 脉冲偏压电弧离子镀 5．4．3 阳极电弧离子镀 5．5 束流离子镀 5．5．1 离子束沉积 5．5．2 团簇离子束沉积 5．5．3 离子束辅助沉积 参考文献 第六章 化学气相沉积 6．1 概述 6．2 化学气相沉积的动态过程 6．3 几种常见的化学气相沉积 6．3．1 热化学气相沉积 6．3．2 低压化学气相沉积 6．3．3 等离子体增强型化学气相沉积 6．3．4 原子层沉积 6．3．5 其他化学气相沉积简介 参考文献

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前　　言

　　当块体材料一个维度的尺寸减小到微米尺度时，我们称之为薄膜材料，同样材料的薄膜与块体，其特性差别很大。为了更好地利用薄膜材料为人类服务，科研人员一直不断地进行科学研究，工程技术人员不断地将科学转变成生产力，提高人们的生活水平。
　　真空镀膜是一种制备薄膜的方法，是真空状态下在固体表面沉积薄膜的一种技术。由于所制备的薄膜具有纯度高、致密度高、膜与基体或工件结合力强等特点，同时由于真空镀膜方法可以制备自然界不存在的结构，如量子点、量子阱或超晶格材料等纳米结构，所以随着科技的发展，真空镀膜技术在国民生活、工业、国防和科研领域发挥越来越重要的作用。超大规模集成电路、平板显示、薄膜太阳能电池、有机发光显示、高硬度耐磨损刀具、装饰膜、催化薄膜等都可以用真空镀膜方法制备，而且有些膜只能用真空镀膜方法制备。
　　改革开放以来，我国科技以史无前例的速度发展，本科生的教学体系也发生了很大变化，教学课程数增多，每门课的学时数减少，以让学生在大学期间能接触到更多知识。“真空镀膜原理与技术”这门课在20世纪80年代，课堂教学为64学时，后来改为48学时，最近又改成36学时。为了更好地适应教学，教材内容必须适当精简，同时必须融进新的技术和原理，以适应新形势对人才的要求。

当块体材料一个维度的尺寸减小到微米尺度时，我们称之为薄膜材料，同样材料的薄膜与块体，其特性差别很大。为了更好地利用薄膜材料为人类服务，科研人员一直不断地进行科学研究，工程技术人员不断地将科学转变成生产力，提高人们的生活水平。 　　真空镀膜是一种制备薄膜的方法，是真空状态下在固体表面沉积薄膜的一种技术。由于所制备的薄膜具有纯度高、致密度高、膜与基体或工件结合力强等特点，同时由于真空镀膜方法可以制备自然界不存在的结构，如量子点、量子阱或超晶格材料等纳米结构，所以随着科技的发展，真空镀膜技术在国民生活、工业、国防和科研领域发挥越来越重要的作用。超大规模集成电路、平板显示、薄膜太阳能电池、有机发光显示、高硬度耐磨损刀具、装饰膜、催化薄膜等都可以用真空镀膜方法制备，而且有些膜只能用真空镀膜方法制备。 　　改革开放以来，我国科技以史无前例的速度发展，本科生的教学体系也发生了很大变化，教学课程数增多，每门课的学时数减少，以让学生在大学期间能接触到更多知识。“真空镀膜原理与技术”这门课在20世纪80年代，课堂教学为64学时，后来改为48学时，最近又改成36学时。为了更好地适应教学，教材内容必须适当精简，同时必须融进新的技术和原理，以适应新形势对人才的要求。 　　本着促进学科与课程建设，推进高等教育高水平、高质量的教材建设的宗旨，作者及团队成员编写了《真空镀膜原理与技术》一书，作为本科生教材，力求用简洁的语言、图和表阐述深奥的物理过程，同时涵盖真空镀膜技术最新发展。 　　本书由方应翠统稿，各章编写人员如下：第一章由方应翠、沈杰编写，第二章由沈杰、方应翠编写，第三章由沈杰、吴春艳编写，第四章由方应翠、余羿、李喜峰编写，第五章由方应翠、施戈编写，第六章由解志强（Zhiqiang Xie）编写。 　　主编方应翠是复旦大学物理电子学专业博士毕业，是中国科技大学凝聚态物理专业博士后，一直从事真空镀膜和薄膜科学方面的研究，同时执教“真空镀膜技术”15年，在教学过程中不断思考，探索适应本科生教学的方式和内容。复旦大学副教授沈杰博士从事多年的薄膜物理研究，具有深厚的薄膜物理功底，尤其对蒸发镀不仅具有丰富的理论知识，而且具有较高的实验技能，负责薄膜物理和真空蒸发镀内容编写。

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