内容简介
本书以通俗生动的语言、图文并茂的形式,简要介绍了集成电路制程。以特征线宽130nm以下为重点,涉及集成电路制作工艺的各个方面,特别是包括短波长光源、步进与扫描照相曝光系统、CMP平坦化、双大马士革Cu布线、低-k介质材料、SoC与SiP等。不仅便于读者入门,特别是指明问题的关键和发展方向。对于与集成电路(IC)制程、材料、设备以及微电子应用相关的科技工作者和工程技术人员,本书具有极为难得的参考价值,也可以作为相关专业本科生、研究生用教材和参考书。
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作者:田民波 编著出版社:清华大学出版社出版时间:2009年12月
- 版 次:1
- 页 数:
- 字 数:
- 印刷时间:2009年12月01日
- 开 本:16开
- 纸 张:胶版纸
- 包 装:平装
- 是否套装:否
- 国际标准书号ISBN:9787302209591
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