薄膜光学与真空镀膜技术

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  • 印刷时间:2013年06月01日
  • 开 本:大16开
  • 纸 张:胶版纸
  • 包 装:平装
  • 是否套装:否
  • 国际标准书号ISBN:9787560336961
  • 丛书名:“十二五”国家重点图书·航空航天精品系列
作者:王治乐 编著出版社:哈尔滨工业大学出版社出版时间:2013年06月 
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了 《薄膜光学与真空镀膜技术》比较全面地介绍了光学薄膜的理论基础与真空制备工艺,内容包括光学薄膜的波动理论基础、膜系特性计算与设计方法、常用膜系(减反射膜系、反射膜系、截止滤光片与带通滤光片)的性能特点、薄膜在真空状态下的物理气相沉积技术、物理气相沉积薄膜的结构与特点、光学薄膜的性能测试方法等。
 
目  录
上 篇
第1章绪论
1.1薄膜光学概述
1.2电磁理论基础
第2章光学薄膜特性计算
2.1递推法
2.2矢量法
2.3矩阵法
2.4非均匀介质膜特性计算
第3章光学薄膜的普遍定理
3.1透射定理
3.2普遍等效定理
3.3对称膜等效定理
3.4周期性多层膜理论

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